Patents

  • Remote plasma-based atomic layer deposition system
    리모트 플라즈마를 이용한 원자층 증착 시스템
    안지환, 유진근, 오성국, 김형준, 신정우, 양병찬, Dohyun Go
    Korea / 10-2074346 / registration of a patent

  • Apparatus and method for processing plasma
    플라즈마 처리 장치 및 방법
    이태훈, 강명훈, 나정식, 신지윤, 안지환, 신정우, Dohyun Go, 이성제, 계승현
    Korea / 10-0086998 / registration of a patent

  • Silicon based capacitor based on deposition thin film on a three dimensional structure and its manufacturing method
    3차원 구조물 상 증착 박막을 기반한 실리콘 커패시터 및 그의 제조방법
    안지환, 김사라은경,     Dohyun Go, 신정우
     Korea / 10-2382148 / registration of a patent
    PCT / PCT/KR2021/001601 /     application for a PCT patent

  • Deposition Device Depositing Atomic Layer
    원자층을 증착하는 증착 장치
    안지환, 이성제, 계승현, 심상일, 조소라, 양병찬,     Dohyun Go
    Korea /     10-2018-0057550 / application for a patent

  • Reactor used for atomic layer deposition apparatus
    ALD 장치에 이용되는 반응기
    안지환, 조성은, 남연수, 오유근, 안효진, 조소영,     Dohyun Go
    Korea /     10-2020-0134138 / application for a patent

  • Anode for Fuel cell
    연료 전지에 이용되는 연료극
    안지환, 김형준, 길민종, 양병찬, Dohyun Go
    Korea / 10-2021-0134481 / application for a patent

  • Apparatus and deposition method for depositing atomic layer
    원자층을 증착하는 증착 장치 및 증착 방법
    안지환, 박건우, 강연호, 김진규, 김수진, 편소영, 신정우, Dohyun Go, 조성은
    Korea / 10-2021-0175680 / application for a patent